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中科院化學所X雷博科儀喜相較于旋涂法，刮涂法制備的鈣鈦礦薄膜通常形貌較差，影響太陽能模塊（PSM）的效率和穩定性。為此，中科院化學所團隊在鈣鈦礦前驅體中引入聚合物添加劑，定制橢圓膠體結構（在實驗中使用了雷博科儀的PF200原位刮涂設備），成果發表于《AdvancedMaterials》。01supportinginformationPF200(原位刮涂)設備：一種可以用于同步輻射原位觀測平臺的微型涂膜器，推桿可吸附硅片或其他形式刀頭進行涂膜，涂膜高度可調。02研究內容a)鈣鈦...

等離子清洗機的清潔效果檢測，核心是驗證表面污染物去除程度以及表面活性提升效果，常用方法可分為物理檢測法和化學檢測法兩類，操作簡單且實用性強，具體步驟如下：一、物理檢測法(直觀判斷，快速上手)1.接觸角測量法這是檢測表面親水性/疏水性變化的核心方法，等離子清洗會去除表面油污、增加活性基團，讓接觸角顯著降低。準備工具：接觸角測量儀、去離子水(或指定測試液)。操作步驟：清洗前：取待測樣品，滴1~2μL去離子水在表面，用儀器測量接觸角并記錄數值。清洗后：用同樣方法在樣品同一區域(或相...

一、概述與行業背景1.1磁控濺射的地位磁控濺射(MagnetronSputtering)是物理氣相沉積（PVD）技術中常用且高效的薄膜制備方法之一。它利用磁場約束等離子體中的電子，提高氣體離化率，從而在較低氣壓和基板溫度下實現高速、均勻的薄膜沉積。隨著半導體、顯示面板、新能源、表面工程等領域對薄膜性能(厚度均勻性、成分可控性、附著力、致密性)的要求不斷提升，磁控濺射設備已成為制造核心裝備。1.2行業發展趨勢半導體先進制程：金屬互連層、阻擋層、介質層等對薄膜均勻性和純度要求高。...

磁控濺射鍍膜設備是一種廣泛應用于電子、光電、材料科學等領域的高科技設備，常用于薄膜的沉積。磁控濺射技術具有良好的膜層質量、均勻性和附著力，因此被廣泛用于半導體、顯示器、太陽能電池等產品的生產中。然而，隨著使用頻率的增加和老化，也會出現各種故障，影響生產效率和產品質量。因此，對磁控濺射鍍膜設備故障診斷與維護是確保設備正常運行和延長使用壽命的關鍵。一、故障診斷1、故障現象排查：設備出現故障時，首先要觀察設備的表現，例如是否有報警信號，是否有異常聲音或氣味等。通過初步的排查，確定故...

摘要電解雙噴減薄儀通過電化學方法從兩側同時減薄金屬樣品，直至中心穿孔，獲得適用于TEM觀察的薄區。其過程敏感且易受多種因素干擾，導致樣品制備失敗。本文旨在提供一套系統性的方法，首先深入剖析電解液選擇、電流參數、噴射條件、溫度與環境等核心工作條件的優化策略，建立參數與樣品質量之間的關聯。隨后，文章構建了一個從現象到根源的邏輯診斷樹，對常見的各類故障(如無法穿孔、孔洞形狀不規則、污染、過薄等)進行逐一拆解與分析。掌握本文內容，將極大提升操作者解決復雜問題的能力，實現對TEM樣品制...

臺式勻膠機廣泛應用于實驗室、生產線以及一些特殊領域，用于均勻涂布膠水、油漆、涂料、薄膜材料等。其主要原理是通過高速旋轉的涂布輥或刀具將膠水均勻地涂覆到基材表面。為了保證其穩定性和涂布效果，正確的使用技巧與定期維護顯得尤為重要。以下是臺式勻膠機的使用技巧與維護指南。一、使用技巧1、選擇合適的膠水：在使用之前，首先要確保所使用的膠水或涂料的粘度適合的工作要求。如果膠水過稠，可能會導致涂布不均勻或堵塞機器；如果膠水過稀，則可能影響涂層的質量和厚度。因此，選擇適合的膠水或調整膠水粘度...

實驗室等離子清洗機的清洗效果直接影響后續實驗(如材料粘接、鍍膜、細胞培養、微電子封裝等)的成功率，其核心優化邏輯是匹配物料特性與等離子參數、控制環境干擾、規范操作流程。以下從6個關鍵維度，結合實際應用場景給出具體優化方案：一、精準匹配等離子氣體類型不同氣體產生的等離子體活性粒子(自由基、離子)特性不同，需根據清洗目標(除油、除膠、活化、刻蝕)和物料材質選擇：通用型清洗(除油、除雜質)：優先選氬氣(Ar)。氬氣等離子體具有高動能，通過物理轟擊作用剝離物料表面的有機污染物、粉塵，...